公式タイトルと情報はIP Exchange PlusとPremiumのユーザーのみが利用可能です。
特許 権利維持 Extreme ultraviolet lithography (also known as EUV or EUVL) is a next-generation lithography technology using an extreme ultraviolet (EUV) wavelength, currently expected to be 13.5 nm. For an introduction to the basics of the technology see Ref.1.
追加情報の詳細を見るにはIP Exchange PlusまたはIP Exchange Premiumアカウントにアップグレードする必要があります
