公式タイトルと情報はIP Exchange PlusとPremiumのユーザーのみが利用可能です。
特許 係属中 A capacitively coupled plasma (CCP) is one of the most common types of industrial plasma sources. It essentially consists of two metal electrodes separated by a small distance, placed in a reactor. The gas pressure in the reactor can be lower than atmosphere or it can be atmospheric.
追加情報の詳細を見るにはIP Exchange PlusまたはIP Exchange Premiumアカウントにアップグレードする必要があります
